file fig86-11.gda
elems [419, 420]
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doc_set 2006

技術領域機能低消費電力化フレキシブルディスプレイ有機ELディスプレイフレキシブル化(湾曲性)電子ペーパー表示分(視認性向上)フレキシブル化低コスト化未来ディスプレイ視差利用3次元ディスプレイリアル3次元ディスプレイユビキタスディスプレイ高精細化(空間分割型)多点観賞対応(時間分割型)高速応答新表示媒体フルカラー化軽量化(ヘッドマウント)投影部光源空間投影データ処理センサー技術製造プロセス製造プロセス封止層駆動回路加工技術表示部材新デバイス・デバイス化技術加工技術表示部・駆動部デバイス加工技術制御方法(駆動回路)ナノテクとしての技術課題アナログ駆動→デジタル駆動ポリマーETおよびTFT(駆動回路):印刷(インクジェット、μコンタクトプリント)機能フィルム(画素(発光部))、駆動部(TFT回路)、カラーフィルター、他)のロール・ツー・ロール製膜フィルム状デバイス(有機EL、TFT一体化)配線・画素電極用導電性高分子(PEDOT/PSS、ポリアニリン、他の高伝導化一次元基板(ファイバー、チューブ)100μm径のガラスファイバー上へのリールツーリール製膜ファイバーデバイス(湾曲表面への有機EL、SiTFTの製膜粒子系:電気泳動型マイクロカプセル、ツイストボール、電子粉流体、トナー、他→停電圧駆動(微小化)・フルカラー化(ナノ材料開発。印刷プロセス(インクジェット、μコンタクトプリント))液晶系:コレステリック液晶、高分子ネットワーク、光書き込み型、他→低電圧駆動、表示安定化(ナノ材料開発。印刷プロセス(インクジェット、μコンタクトプリント))μコンタクトプリント))その他:電解折出、リライタブルペーパー(ロイコ染料)、エレクトロクロミック、他:応答速度の向上(ナノ材料開発。印刷プロセス(インクジェット、μコンタクトプリント))マイクロカプセル→サブミクロン化(ナノカプセル化・小型化)ドライバ(単純マトリックスSi→TFT→有機TFT(印刷))画素養電極(ITO→導電性高分子)封止膜(金属缶→Si3N4-SiO2スパッタ膜→樹脂封止(スピンコート、μコンタクトプリント))フォトリソグラフィー→印刷(インクジェット、μコンタクトプリント)枚葉製膜→ロール・ツー・ロールナノリソグラフセンサー同期時分割視差バリヤ超高速光MEMSエアロゲル等3原色高輝度指向性光源MEMS技術