file fig86-7.gda
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doc_set 2006

技術領域要素技術機能ナノテク技術課題プラズモニクスデバイス微細加工位相共役鏡ホログラフィ波面制御波面制御論理素子センシング発光・電磁波発生光増幅論理素子導波路(極微小光回路)極微小光回路においてナノメートル幅の導波路によるデバイス間の接続光集積回路、光通信、幹線系ネットワークカスケードレーザ(テラヘルツ電磁波増幅)光パラメトリック増幅(テラへルツ電磁波増幅)量子細線レーザー光通信、光集積回路、幹線系ネットワーク波長可変光源(テラヘルツ電磁波発生)電子発振器(テラヘルツ電磁波発生)フォトディテクター波面制御ショットキーダイオード(テラヘルツ電磁波検出)光集積回路、光通信、幹線系ネットワーク実時間立体動画表示高密度光伝送記録加工MEMS光伝送低消費電力高速演算素子高効率化波長可変高効率化波長可変高均一化、高密度化、通信波長帯化発振波長可変切り替え時間短縮発振波長可変高出力化高周波化検出効率の向上高速光応答高精度高速位相制御検出効率の向上高速光応答低消費電力高速演算素子高速応答性高密度・超高速化縮小・再生(フェムト秒レーザーによる三次元ガラス加工)偏光制御・ナノオーダーでの金属ドット構造制御・金属ナノ構造形成、寸法精度、位置精度・漏れ電流の制御・井戸幅が精密制御された多重量子井戸・新規非線形光学結晶の開発・励起レーザーとの一体化・超高純度半導体量子井戸の育成・半導体量子細線光物性、超高速ダイナミクス・半導体量子細線ナノ微細加工・半導体量子細線デバイス技術の開発・超高純度半導体量子ドットの育成、?-V族量ドットの高密度化、多層化・(Ga,In)(As,P)系半導体微細ナノ加工(特に回折格子)・半導体・ガラス接合技術・光合分波技術・ナノ微細加工による回折格子作製・半導体レーザーとの一体化・新規非線形光学結晶の開発・半導体材料の高移動度化・極微小FETにおける動作性能の向上・新奇構造による高周波数化・分解によるナノレベル均一薄膜作製・高速高分解能の空間光位相変調器技術・プレーナ型構造・アレイ化・金属ナノ構造形成、寸法精度、位置精度・精密材料設計(弱い電場で分子が配向し、かつ屈折率変化の大きい材料の開発)・精密材料性毛英に基づいた材料開発・新デバイス/デバイス化技術・3次元立体ナノインプリント技術・高微細加工化と高加工精度化(位置、形状)の同時実現・高速高分解能の空間光位相変調器技術・波面制御素子設計の高速化・高スループット化・超微細化・高速化