file fig87-23.gda
elems [529, 543, 548]
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doc_set 2006

大項目ストレージ評価パラメータ・記憶容量・転送速度・寿命2005200620072008中項目200920102011201220132014201520162017201820192020次々々世代光ディスク技術1TB~1PB、1Gbps~、>30年体積ホログラム記録可換型:超多層記録HDD型:近接場記録体積記録(writeonece)と面記録(書換)の融合したシステムアーカイブ用記録材料の開発(長寿命)近接場光記録用高感度フォトンモード記録材料紫外用記録・光学材料の開発高安定・高多重度WriteOnce用ホログラム材料高安定・高効率・室温動作型Re-Writable用ホログラム材料超高感度二光子吸収材料超多層用低損失記録膜電圧型高速層選択材料巨大カー効果材料(立値記録)記録型多層用低損失記録材料記録膜材料の低損失化多層記録:高透過率化ホログラフ:高安定化、高効率化、高いAn、低損失化二光子吸収:高感度化次々世代光ディスク技術次世代光ディスク技術超高密度光ディスクの作製における、加工精度(数十nm)と速度(量産性)の両立並びに低コスト化の限界。最小ピット長が解像限界(可視光レーザー)に達する。機能性超解像マスク材料の開発(カルコゲナイド、金属酸化物)中間層形成型多層化技術(2~4層)セルサイズの縮小、レベルの高分割化高速応答性の相変化膜の開発(Blu-ray,HDDVD)書換型ディスク:記録/消去速度が遅く高転送レートを実現できない30~50GB36Mbps、>30年(片面2層)材料技術(新材料の探求)従来技術延長超解像技術多値化三次元体積記録型ホログラム三次元ビットワイズ型超多層二光子吸収現象解明(技術的に何を目的として明らかにするのか)近接場光その他環境対応型ディスク相変化メカニズムの解明微小領域における光学非線形性の発生原理の解明ナノテクノロジーの加工技術(ナノインプリント、自己組織化、薄膜成長など)共通レーザー利用高速描画技術熱による微細加工技術SILによる微細加工技術電子線利用高速描画技術パターンドメディアナノインプリントの適応ナノ構造多機能光学素子の作製技術ナノピット射出成型技術ピットのナノメートル制御磁性微粒子の整列微細記録ピット光ディスクSILヘッド小型光ピックアップ超精密サーボ機構高出力青色LD新デバイス(材料が集積・加工されたナノテクノロジーの構造体)計測技術高輝度X線によるナノ構造のその場観察微小領域の屈折率、熱物性の測定手法の確立超解像ディスクシミュレーターの開発超多層ディスクシミュレーターの開発ボトルネック項目ナノテク応用光ディスク系技術ナノテクノロジー分野のロードマップ(メモリ・ストレージ)MEMS応用小型ヘッドの作成技術体積記録でのビット製造作製フライングヘッド技術高効率近接場光ヘッド紫外LD高密度MIRROWARRAYデバイス