file 26-3.gda
elems [141, 186]
vmap [([2,'応用',1.000000],[67,6.158883]),([0,'MEMS',1.000000],[90,15.332853]),([3,'',1.0],[0,0.0]),([1,'',1.0],[0,0.0])]
doc_set 2006

このようなニーズに対応するためには、MEMS製品の高機能化(高速スイッチング、小型化等)及びMEMS製造プロセスにおける低コスト化と、設計・解析技術等の基盤技術の確立が喫緊の課題であり、技術マップにおいて、技術課題をエッチング技術、成膜技術、形成技術、実装技術、検査・評価技術、設計・解析技術等に大別した上で、それぞれについて詳細に示した。
個々の技術の「出口」については、MEMS製品が非常に広範囲に応用されうるものであることを踏まえ、主として想定される応用分野を技術ごとに示した。
重要技術の考え方
上記I〜IIIを踏まえれば、
(1)MEMSの高機能化、または低コスト化に大きく貢献する技術
(2)MEMS全般に広く貢献する基盤技術
が重要技術として挙げられる。
具体的には、
高機能化に資する技術として、立体形状自由加工技術(立体構造上へのパターン形成技術)、ナノ機能材料選択的形成技術(ナノ材料局所形成技術)、機能性表面形成技術(化学的・バイオ的表面修飾技術)等