file figrm_nano1_page123.gda
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doc_set 2007

左記材料、技術の実用化に向けた研究開発課題(複数項目)2007200620202019201820172016201520142013201220112010202520242023202220272021202820292030202620082009(新産業創造戦略の出ロ)出口製品・部品名称名称(材料・技術名称)(材料・技術の概要)ナノテクノロジー分野のロドマップ(04共通基盤_01ナノ加工_高度材料界面制御・高次組織制御)半導体・光デバイス用材料・部材光デバイス製造技術有機トランジスタ(有機半導体)TFTやEL素子等の特性向上光学素子フォトニック光導波路作成技術光界面配向技術高電導有機材料高分子精密界面製膜技術ナノ粒子コロイド結晶自己組織化プロセス光アクティブ界面有機分子の結晶構造(配列構造)制御により、電子あるいは正孔が効率的に伝達可能な高電導有機材料(分子レベルでの精密な界面配列制御を可能とする高分子膜)単分散ナノ粒子を3次元規則配列させる金属蒸着膜をテンプレートとし、ウェットプロセスニよるフォトニック光導波路作製技術。液晶やその他の異方的機能材料の光配向プロセスの開発有機分子の配列制御による伝導性の向上デバイス化(電極の接合)高分子ナノ薄膜製造技術均?粒径ナノ粒子合成技術の開発表面修飾による粒子間相互作用の制御コロイド結晶の自己集合手法と制御ラビング処理ポリイミドに匹敵する耐久性液晶物質に限らない広範な機能物質の光配向技術の創出不活性秀囲気中でのFET移動度大気下でのFET移動度10??~10ºcm?/v大気下で安定なFET移動度10??~10ºcm?/vゲート絶緑膜ー半導体界面制御(絶緑膜表面処理技術の開発)有機半導体材料の結晶化プロセス開発有機半導体材料精密設計技術の開発真空・フォトリン主体の加工真空・フォトリン・ウエットブロセサウの組み合わせによるオーミックコンタクト材料の探索、開発オーミックコンタクト材料のウェット加工技術開発オールウェットプロセスによる加工ブロセス開発オーミックコンタクト材料の真空、フォトリン加工技術開発機能高分子の精密配列制御法の開拓特性評価デバイスヘの適用面内・面外の精密制御法の探索電気特性・光学特性・耐久性等の評価デバイス構策と実証均ー性(分散値)5%以下、量産性g/時間均ー性(分散値)3%以下、量産性10g/時間均ー性(分散値)1%以下、量産性kg/時間コロイド化学的合成法などによる、粒子径の均ー性と生産性向上技術の開発2次元格子3次元格子粒子サイズの制御と表面修飾子の選択による、ナノ量子結晶の電子状態任意制御技術の開発最密充填型コロイド結晶の開発簡易で迅速な製造法の開発階層構造の構策簡易で迅速な製造法の開発階層構造の構策溶液組成傾斜法各機能物質における2次元・空間分解能の評価、安定性の評価バターニングされた鋳型を用いたエどタキシャル成長法の利用(精密構造の構策)波長可変レーザー、生物物質・化学物質用センサー構築非最密充填型コロイド結晶の開発無重力空間の利用マルチカラークロミック材料、スーパープリスム、波長可変レーザー全反射型ディスブレイの開発配向制御およびブレチルト角制御法・安定化手法の開発生産手法の探索と確立偏光照射、斜め照射、スリットスキャン照射に対する高分子物質の探索材料探索、製膜法の最適化大型行画面生産への対応と最適化高速応答への対応と最適化実用的生産ラインにのせるための高感度化の達成とその安定化手法の探素と確立配向膜の開発、面内/面外配向制御法の探索デバイス構策ヘ向けた基礎研究デバイス構策ヘ向けた応用研究光配向可能な機能物質群(:液晶高分子膜、EL用高分子、色素膜、メソ細孔膜、金属・半導体ナノ微粒子、磁性微粒子などの光配向法の探索デバイス構策ヘ向けた最適化と複合化手法の確立実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間