file figtm_nano1_page67.gda
elems [27, 101]
vmap [([3,'サービス',1.000000],[22,3.564949]),([0,'',1.0],[0,0.0]),([2,'',1.0],[0,0.0]),([1,'情報家電',1.000000],[79,4.258097])]
doc_set 2007

ナノテクノロジー分野の技術マップ(04共通基盤_01ナノ加工_ナノインプリント・精密ビーム加工)出口(新産業創造戦略の出口)出口サービス出口製品・部品名称出口製品・技術分類具体的製品(要素/プロセス名称(技術名称)(出口に貢献するナノ加工の名称)技術の概要左記技術の実用化に向けた研究開発課題研究開発課題評価指標出口への貢献/ボトルネック性ナノテクノロジーの寄与技術的優位性産学連携/異分野連携などの必要性基盤性市場・社会へのインパクト情報家電大電力高周波パワートランジスタ(ダイヤモンド系)CNTトランジスター論理回路、CNTメモリ、CNTセンサー、CNTバイオセンサー有機トランジスター、有機センサー光導波路マイクロレンズアレイ2Dフォトニック結晶3Dフォトニック結晶シリコンフォトニクス波長変換デバイス偏光制御デバイス位相差制御デバイスプラズモニクスデバイス電磁波制御メタマテリアル光MEMS反射防止膜サブ波長偏光板構造色利用カラーフィルタ導光板配線、層間絶縁膜、絶縁膜等形成技術光デバイス液晶ディスプレイディスプレイディスプレイ(共通技術)光通信その他の新規材料系デバイス基板製造ドーピング微細加工プロセス微細加工プロセス基板加工プロセス微細加工プロセスナノ構造形成ナノ構造形成・射出成形+ナノインプリント・光ナノインプリント・ナノインプリント・ナノインプリント・ナノインプリント・ナノインプリント・ナノインプリント・電子ビーム・電子ビーム・集束イオンビーム・ナノインプリント・LIGA・フェムト秒レーザー加工・ナノインプリント・LIGA・LIGA・LIGA・LIGA・ナノインプリント・電子ビーム・LIGA・ナノインプリント・ナノインプリント・電子ビーム・LIGA・LIGA・有機材料のナノビーム加工・ナノインプリント・マイクロコンタクトプリント・フェムト秒レーザー加工・リソグラフィ・イオンビームイオンビーム(含むガスクラスターイオンビーム)・イオンビーム・クラスターイオンビーム表面ラフネスの低減低温ドーピング技術の確立Siにおける微細加工技術のSiCへの転用集光フェムト秒レーザーによるレーザースクライビング技術CNT配向基板加工技術の確立(リソ、エッチング)環境を制御しながらナノインプリントする技術導波路側面のラフネスを低減した高効率導波路の作成導波路側面のラフネスを低減した高効率導波路の作成3次元光造形によるPC作成多層膜の導入による3DPC作成高アスペクト比かつ側壁が平坦な導波路の形成ガラス微細ナノ加工、ナノ形状制御ガラス微細ナノ加工、ナノ形状制御ガラス微細ナノ加工、ナノ形状制御ナノオーダーでの金属ドット構造制御ナノインプリント、リソグラフィー、MEMS技術などによる微細構造の量産技術低コストのプロセス技術テーパー断面を形成可能な微細パターン形成技術ナノ構造形成による反射防止膜形成200nm以下のピッチでのワイヤーグリッド低コストでサブ波長パターンが形成可能なリソグラフィ技術三次元構造を形成できる微細パターン形成技術テーパー断面を形成可能な微細パターン形成技術低コスト、大面積均質性最適光学系の設計・CNT配向成膜のための技術・配向成膜のための下地基板の加工通常のホトリソでは加工が困難な有機導電体材料のナノ加工高精度化製造プロセスの高速化・高速化・プロセスの低コスト化マイクロレンズアレイシートの薄型化高精度化製造プロセスの高速化・高屈折材料への転写(反転構造)・作製時間の短縮・側壁平坦性の向上・コスト削減・最適構造設計・ナノメートル構造制御多数の微細構造を均質に形成する量産技術の開発・従来プロセスとの親和性表面形状の保護・ナノ精度射出成型技術の確立・大面積化・スループット・消光比の向上・構造色発生のための厳密な膜厚制御散乱光の均一性の向上、損失の低減○半導体・電子部品パワーデバイス○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○・マイクロコンタクトプリント