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doc_set 2007

ナノテクノロジー分野のロードマップ(04共通基盤_01ナノ加工_高度材料界面制御・高次組織制御)2007200820092010201120122014201320152016201720182019202020212022202320242025202620272028202920302006出口(新産業創造戦略の出口)出口製品・部品名名称(材料・技術名称)(材料・技術の概要)材料、技術の実用化に向けた研究開発課題(複数項目)医療センサー・チップイメージング分子認識部位診断用センサー(抗体センサー、アレルギー診断チップなど)トランスデューサマイクロ流路テラヘルツ生体透視システムテラヘルツイメージングプレート特異的に分子の存在を認識する分子認識部位からの信号を取り扱い易い信号(一般には電気信号)に変換する診断対象物を分子認識部位に適切に輸送するための流体回路テラヘルツ波を人体に照射して透過波を2次元的に記録するプレート認識機構の選別と実用性検証分子特異性と信号発生の制御技術確立複数センサ及び周辺回路との集積化マイクロ流路要素技術表面処理・加工技術液体回路制御技術場増強効果をイメージングに利用可能かの検証空間分解能の向上ミクロセンシングの基本設計と実証デバイスの試作応用評価レベルナノセンシングの基本設計と実証デバイス試作応用評価レベルナノセンシング実用性証明と実用化分子認識機構の評価・選別認識感度(S/N)向上と識別範囲の設定認識標的化学種の選定と特異性・選択性検証標的分子に対応した認識基本原理と信号種のリストアップ段階実用化すべき標的種と信号種の特化と実用性能目標の設定化学種ごとの既存技術の優先付けと新機構の探索ナノデバイス化適合信号種の探索と選別デバイス化の基本設計法確立実用デバイスの試作分子認識の実用的信号化技術開発実証デバイスの試作と性能検証センシングバイスの設計と製造法開発半導体センサの基礎技術構築RF(無線通信)モニタリング対応周辺回路を含めた集積化複数の機能センサの集積化半導体センサの小型化・高機能化半導体センサによる常時モニタリングマイクロ流路加工幅10~200μmマイクロ流路の集積化・3次元化マイクロ流路加工幅0.1~200μmフォトリソグラフィー・ウェットエッチング法MEMSによる微細加工精度の向上電子線リソ・ナノインプリント・ナノレベル射出成形などによる微細化EUVレーザーを用いた直接非熱加工による微細化・加工精度の向上マイクロ流路中で動作する、ポンプ・バルブ・ゲートの開発流路中に50~100nmの構造体形成表面加工精度~数十nmナノチャネルを有するマイクロ流路の開発表面加工精度~数nm表面加工精度~1nm金属や無機物を流路内に固定化する技術の開発マイクロサイズ流体回路マイクロ流路の最適化メソ空間流体化学の探索研マイクロ~サブナノチャネルサブマイクロ~ナノチャネル流路による流体解析技術シランカップリング、自己組織化を利用した表面修飾dip-pen、ナノラビングを利用した流路内壁の表面修飾、改質技術ナノチャネル流体増幅率105倍増幅率108倍増幅率1010倍ナノチャネル流路構造の最適化カットワイヤ、網構造、配線、スルーホール技術の開発アレイ化技術の開発分解能1×1mm分解能100×100μm分解能30×30μmテラヘルツ光源の開発イメージング技術の検証実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間実施時間