file figtm_nano1_page69.gda
elems [195]
vmap [([1,'サービス',1.000000],[166,3.564949]),([0,'',1.0],[0,0.0])]
doc_set 2007

製造技術リソグラフィー装置ナノインプリント装置マスクレスリソグラフィー光学系、低熱膨張材料ミラーナノインプリントモールド量産用モールド製造プロセス半導体用モールド製造プロセス半導体用モールド修復プロセス・フォトリソグラフィー・イオンビームフィギュアリング・クラスターイオンビーム・集束イオンビーム・電子ビーム・エッチング・電鋳・電子ビーム・集束イオンビーム・ナノインプリント・AFM・電子ビーム・集束イオンビームダイナミックマスクレスリソグラフィ技術・光学系の構築・位相制御技術・デジタルミラーデバイスの向上スループット(1枚数ヶ月)形状精度1.5nm以下、粗さ0.15nm以下、全体サイズ1m超・高耐久・低コスト・大面積・スループット・位置精度・欠陥ナノインプリントの実用化のために必要なモールドの製造ナノインプリント用モールドの製造ナノインプリント用モールドの修復・超微細パターンの形成および修復○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○ナノテクノロジー分野の技術マップ(04共通基盤_01ナノ加工_ナノインプリント・精密ビーム加工)出口(新産業創造戦略の出口)出口サービス出口製品・部品名称出口製品・技術分類具体的製品(要素/プロセス名称(技術名称)(出口に貢献するナノ加工の名称)技術の概要左記技術の実用化に向けた研究開発課題研究開発課題評価指標出口への貢献/ボトルネック性ナノテクノロジーの寄与技術的優位性産学連携/異分野連携などの必要性基盤性市場・社会へのインパクト