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doc_set 2007

メモリ・ストレージディスプレイ表面伝導型電子放出素子ディスプレイナノギャップ電極形成技術発光素子有機EL(有機トランジスタに順ずる)LED・ナノインプリント・LIGA・有機材料のナノビーム加工・ナノインプリント・ナノインプリント・ナノインプリントナノパターン形成ディスクリートトラックメディアナノパターン形成・電子ビーム・反応性イオンエッチング・ナノインプリント磁気系ストレージパターンドメディアナノ平滑平面形成ナノギャップ電極を用いた電子放出機構に基づき蛍光体を発光させる技術・大面積化・加工の低コスト化通常のホトリソでは加工が困難な有機導電体材料のナノ加工高効率取出のためのパターン設計および永久膜の信頼性・低価格化両面加工環境を制御しながらナノインプリントする技術・光取出効率改善・低コストでサブ波長パターンが形成可能なリソグラフィ技術トラック上のみに磁気情報を記憶させる事による記憶容量の向上微細ドットを全面配置し、磁区を分離する事によって1Tbit/in2以上の記憶容量を確保するnmオーダーの超平坦平面の形成高信頼トンネル絶縁膜の作成クロスバー構造磁性膜による抵抗スイッチングトランジスター型メモリー強誘電体材料記憶クロスバー構造カルコゲナイド材料抵抗スイッチングメモリーAFMプローブを用い、樹脂膜に凹み付けることで記憶し、凹み周辺を加圧することで消去する。高分散化、ナノ構造制御による触媒量の低減、耐久性の向上、触媒活性の向上ラジカル捕捉能を持つナノ粒子コンポジット(フラーレン、フラーレン誘導体)による耐久性の向上ナノコーティングによる耐久性の向上(ラジカル捕捉層形成)による耐久性の向上プロトンスルーウエー膜による出力密度向上ナノ分散した有機・無機ハイブリッド膜による耐熱性、保水性向上とナノファイバーからなる微多孔性イオン交換膜による出力密度向上ブロック共重合体やグラフト共重合によるメタノール浸入阻止ナノ層付与膜による出力密度向上電解質膜表面積の増加させ触媒反応促進による出力密度向上ナノファイバー添加(カーボン、導電性高分子)ナノコーティングによる性能向上、耐久性向上、低コスト化パワーMEMS技術による燃料電池プロセスの極小化半導体加工技術、ナノ触媒・化学反応技術の融合によるマイクロ改質器の極小化・化学反応器、ヒータ、温度センサなどを1チップに統合・内部反応の高温化と外部面低温化の両立・3次元構造体の形成(深溝エッチング、マイクロマシニング)・化学安定性の向上(加工された異種材料の接合、表面被覆プロセス)・半導体加工技術、ナノ触媒・化学反応技術の融合(リソグラフフ法、スパッタ法、サンドブラスタ法、ゾルゲル法)・半導体加工技術・静電スプレー法など・ナノインプリント・高分子精密重合法・電界紡糸法・ナノ粒子分散コンポジット化・スルホン酸基の配列制御、高分子立体構造制御・電界紡糸法およびナノ炭素紡糸法・ナノ粒子分散コンポジット化・高分散化、ナノ構造制御・AFM・従来リソグラフィー・ナノインプリント・従来リソグラフィー・ナノインプリント・従来リソグラフィー・ナノインプリント・従来リソグラフィー・ナノインプリント・クラスターイオンビーム・ドライケミカルプラナリゼーションナノメカノケミカルポリッシュ情報家電燃料電池不揮発メモリMRAMFeRAM電解質膜形成(フラーレンなど)PRAMMEMSプローブメモリPEFC/DMFC電解質膜触媒・担体電極触媒担持プロセス(白金、カーボンなど)電解質膜形成電解質膜(プロトンスルーウエー膜)形成電解質膜(有機・無機ハイブリッド膜)形成電解質膜(メタノール浸入阻止ナノ層付与膜)形成高分子膜(ナフィオンなど)ナノ構造形成高分子膜形成ガス拡散層(GDL)マイクロ燃料電池(パワーMEMS)微細加工プロセス微細加工プロセスマイクロ改質器マイクロ燃料電池・カーボンファイバーを一部用いたGDL材料のメカニズム解明・GDLとセパレータ表面のナノ構造制御技術の開発・電極厚さの極小化、低コスト化・転写形状、転写プロセスの最適化・阻止層厚みの極小化、メタノール阻止率の向上・ファイバ径、孔径、厚みの極小化、プロトン伝導性の向上・粒子径の極小化、スルホン酸基配列の完全化、プロトン伝導性の向上・電界紡糸法およびナノ炭素紡糸法による作製と最適化・粒子径の極小化、ラジカル捕捉率の向上・粒子サイズの最適化、面方位・形状の最適化・非金属触媒の探索・開発・ナノ粒子化・カーボンナノファイバ、ファブリック:電界紡糸法およびナノ炭素紡糸法による作製と最適化・低コスト化・メモリー部構造の微細パターン形成・低コスト化・3Dキャパシーの深堀構造用プロセス・低コスト化・磁性材料に対する高選択比レジスト・低コスト化・磁性材料に対する高選択比レジスト低価格化ビットコスト半減/年)                ・平坦化のスピード(コスト)・両面同時仕上げの可能性・低価格化両面加工・パターン精度の向上・磁区の高密度化・ヘッドの位置合わせ技術・高スループット装置、低コスト化フラッシュメモリ○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○○ナノテクノロジー分野の技術マップ(04共通基盤_01ナノ加工_ナノインプリント・精密ビーム加工)出口(新産業創造戦略の出口)出口サービス出口製品・部品名称出口製品・技術分類具体的製品(要素/プロセス名称(技術名称)(出口に貢献するナノ加工の名称)技術の概要左記技術の実用化に向けた研究開発課題研究開発課題評価指標出口への貢献/ボトルネック性ナノテクノロジーの寄与技術的優位性産学連携/異分野連携などの必要性基盤性市場・社会へのインパクト